ACS Applied Electronic Materials Accepted
- ISLAB
- 2023년 6월 12일
- 1분 분량
최종 수정일: 2023년 6월 13일
Madani Labed*, Ji Young Min, Eun Seo Jo, Nouredine Sengouga, Chowdam Venkata Prasad, You Seung Rim*
"Reduction of Fermi-level pinning and controlling of Ni/β-Ga₂O₃ Schottky barrier height using an ultrathin HfO₂ interlayer"
ACS Applied Electronic Materials, Accept (2023) (IF 4.494)
Congratulation!

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